管状炉 IWQ

融解ガス真空

ALDのIWQの誘導は専門にされて、高温プロセスが発熱体から隔離される必要がある時はいつでも水晶環状炉を見つけた多くの適用を熱した。材料はIWQの炉で処理される誘導加熱の源と材料間に化学相互作用がないので持っている純度の高度を熱した。IWQシステムは1メートルの管の直径までサイズの広い範囲で利用でき、2 ‑は長いプロセス部屋をメーターで計る。エネルギーはsusceptorまたは直接荷電粒子で原料につながれる。誘導は、水晶環状炉（水素）減り、酸化し、不活性ガス、そして真空のような管理された大気を収容し、また積極的な蒸気および化学薬品から温度で保護できる2000まで°C.熱した。IWQの炉はまた軸および放射状の温度の均等性の高度を提供する。