薄層用カソードスパッタリングターゲット

熱間プレス、熱間等方圧プレス（HIP）、冷間等方圧プレス（CIP）、誘導真空溶解、真空鋳造など、さまざまな特殊加工技術を駆使して、厳しい用途規格に適合する均質で微細な高密度材料を製造しています。 すべてのスパッタリングターゲットは、洗浄、検査、化学的テストが行われ、お客様の真空システムですぐに使用できるように不活性ガス下で梱包されます。 オングストロームサイエンスは、貴金属、純金属、合金、セラミック、サーメット、ホウ化物、酸化物、炭化物、窒化物、珪化物、フッ化物など、あらゆるスパッタリングターゲット材を提供しています。 純度は商用グレード（99.5%）から超高純度（99.9999%）まで取り揃えています。