ASMPTのレーザーベースのウェーハ分離装置は、VIダイシングおよび/またはマトリックスグルービングプロセスに基づき、最小のCost of Ownershipでエッジ品質をリードしています。ASMPTは、OSATおよびTier1 IDM企業向けに、お客様の市場特有の課題に対応するため、すべてのモデルで幅広いオプションポートフォリオを開発しています。ASMPTの最新モデルはG-UV-USPで、メモリ市場のグルービングアプリケーションに使用されています。
LASER1205プラットフォームは、レーザーエネルギーによる半導体ウェハーの分離や溝入れのために特別に開発されたシステムファミリーです。LASER1205プラットフォームは、レーザーエネルギーによる半導体ウェハーの分離・溝入れ加工用に特別に開発されたシステムです。
人間工学に基づいたデザイン、ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンディスプレイ、使いやすさにより、オペレーターは様々な製品に対応するシステムを簡単にコントロールすることができます。LASER1205システムは、CE規格に準拠した工業規格に適合しているため、システムを安全に操作するための特別な注意やトレーニングは必要ありません。
完全レシピ制御プロセス
-レーザースポットの高い柔軟性(30種類以上のスポットパターン/DOEを提供)
-選択されたDOEへの高速変更(オリエンテーションチェックを含む
-レーザーパワーの正確な変更(パワーとスポット位置のチェックを含む
-加工中の高精度(ウェーハ)スライダー位置(+/-1.5µm)
-割れたウェハーや部分的なウェハーの加工が可能
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