質量流量調節器 GF1 series
ガス用

質量流量調節器 - GF1 series - Brooks Instrument - ガス用
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特徴

技術
質量
流体
ガス用
流量

最大: 300 l/min
(79.25162 us gal/min)

最少: 0 l/min
(0 us gal/min)

圧力

最大: 90 psi

最少: 7 psi

詳細

半導体プロセス向けの最適なパフォーマンス リアルタイムの診断力が埋め込まれた、EtherCAT® データ収集機能 超安定性のあるフローセンサ (セットポイントの≤ 0.15%、1年ごとに)により、 低いセットポイントにおける精度が上がり、メンテナンスの要求度も低減されます バルブシャットダウンを改良し (ビンレンジの≤ 0.15%)、ファーストウエハエフェクトを低減させるため、バルブリークバイを減らしました 新たに強化された圧力変動耐性(PTI)により、クロストークの感度が減り、一貫したマスフロー供給が実施されます 特徴 長期間のゼロ点安定性、±0.15% F.S./年以下 応答速度: 300 ms から1 second以下 接ガス部は全て金属: 最大0.125µ もしくは 0.25µm Ra 表面仕上げがオプションであります 高耐腐食性ハステロイT-Riseセンサにより、高温下における温度再現性の向上 MultiFloTM ガス、レンジ変更機能: ガスラインからMFCを取り外すことなく、また精度を損なうことなく、一つのデバイスで数千種類もの異なるガスと流量に設定可能 使いやすいユーザーディスプレイ及び独立した診断/サービスポートより、機器の取り付け、モニタリング及びトラブルシュートの手助けになります GF120 Safe Delivery System (SDS®) は、インプラントやエッチングプロセスで使用される大気圧以下のSDSガス供給用の、ブルックスの最高技術による低圧力損失マスフローコントローラです。 利点 非常に優れたパフォーマンス 素早い反応時間により改善されたアプリケーションの効率性 フレキシブルな接続形態 実質的に制限の無いネットワーク接続形態 簡単で頑丈 コンフィグレーション、診断及びメンテナンス 値ごろ感 標準のイーサネットポート 用途 半導体エッチ装置 CVD, MOCVD, PECVD, ALD装置 PVD装置 エピタキシャルプロセス装置

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カタログ

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。