半導体プロセス向けの最適なパフォーマンス
リアルタイムの診断力が埋め込まれた、EtherCAT® データ収集機能
超安定性のあるフローセンサ (セットポイントの≤ 0.15%、1年ごとに)により、 低いセットポイントにおける精度が上がり、メンテナンスの要求度も低減されます
バルブシャットダウンを改良し (ビンレンジの≤ 0.15%)、ファーストウエハエフェクトを低減させるため、バルブリークバイを減らしました
新たに強化された圧力変動耐性(PTI)により、クロストークの感度が減り、一貫したマスフロー供給が実施されます
特徴
長期間のゼロ点安定性、±0.15% F.S./年以下
応答速度: 300 ms から1 second以下
接ガス部は全て金属: 最大0.125µ もしくは 0.25µm Ra 表面仕上げがオプションであります
高耐腐食性ハステロイT-Riseセンサにより、高温下における温度再現性の向上
MultiFloTM ガス、レンジ変更機能: ガスラインからMFCを取り外すことなく、また精度を損なうことなく、一つのデバイスで数千種類もの異なるガスと流量に設定可能
使いやすいユーザーディスプレイ及び独立した診断/サービスポートより、機器の取り付け、モニタリング及びトラブルシュートの手助けになります
GF120 Safe Delivery System (SDS®) は、インプラントやエッチングプロセスで使用される大気圧以下のSDSガス供給用の、ブルックスの最高技術による低圧力損失マスフローコントローラです。
利点
非常に優れたパフォーマンス
素早い反応時間により改善されたアプリケーションの効率性
フレキシブルな接続形態
実質的に制限の無いネットワーク接続形態
簡単で頑丈
コンフィグレーション、診断及びメンテナンス
値ごろ感
標準のイーサネットポート
用途
半導体エッチ装置
CVD, MOCVD, PECVD, ALD装置
PVD装置
エピタキシャルプロセス装置