Bühler Leyboldの光学のHELIOSシリーズは適用範囲が広い速く、精密な十分に自動化された薄膜のコーティングのためのプラットホームのである。 それは高い収穫および高い効率と達成されるべき洗練されたフィルター設計を特色にする良質の光学コーティングのために設計され、特に設計される。 非常に密で、滑らかな、化学量論的な無定形の層は並ぶものがない光学性能を保障する。 現場の基質の測定のための光学モニタリングシステムは層の厚み制御の最終的な精密を促進する。
顕著な生産性および層の質
放出させる血しょう助けられた反応マグネトロンの最新式の技術は(PARMS)原子スケールで高精度および高い収穫が付いている一等級プロダクトで起因する高い生産性のための高い溶着速度の無線周波数(RF)血しょう源によって助けられる金属ターゲットからの誘電性のコーティングの沈殿を可能にする。
各回転の間に、薄い補助的化学量論的な酸化物の層は指定二重マグネトロンによってRFの源の酸素血しょうを渡している間沈殿し、非吸収の酸化物の層に移る。 この方法は金属ターゲットから放出させる時でさえ最も低い損失および完全な化学量論の結果を保障する-。
光学監視は高い生産の安定性を促進する
直接基質の現場の光学監視は回転回転盤内の基質の位置の1つのテストガラスを使用して断続的なモードで行われる。 これはコーティングの非常に高い生産の安定性そして反復性で起因する。
速い回転回転盤少数のナノメーターの薄層の生産をおよび高精度の非常に可能にする。
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