四重極分光器 AKONIS

イオン移動度プロセス半導体産業用

量産半導体製造のための完全自動化SIMS AKONIS SIMSツールは、インプラントプロファイル、組成分析、界面データのための高スループット、高精度検出を提供し、大量生産を可能にすることで、半導体製造プロセスにおける重要なギャップを埋めます。AKONISは、ファブレベルのプロセス制御とツール間のマッチングのために、ツール間の再現性を保証する非常に高いレベルの自動化を提供します。 IMS Wf/SC Ultraや、特性評価ラボで半導体業界をサポートするために使用されているSIMS 4550（四重極SIMS）を補完するAKONISは、装置のセットアップと分析ルーチンの完全自動化により、分析感度に妥協することなく、ラボ内での迅速な分析を可能にします。AKONISは、最近開発されたEXLIE（EXtremely Low Impact Energy）イオンカラム技術（<150 eV）と高分解能ステージを含む完全なウェハーハンドリングシステムにより、20 μmまでのパッド上での測定が可能です。 N5以降の高歩留まりを可能にする SiGeおよびSiP多層スタックの高分解能組成および高速ドーパント深さプロファイリング 他の追随を許さない20μmまでのパッド検出限界 プロセスラインにデータをフィードバックする時間を97%以上短縮 ブランケットおよびパターン化されたフルウェーハ測定 パターン認識エンジンと高分解能干渉ステージの組み合わせにより、2μm以下の位置精度を実現 独自の材料データベースに基づく直感的なレシピ作成 SEMI認証（S2/S8、E4、E5、E39、E84...） 低所有コスト