チャンバー炉 V-L series

熱処理ガス真空

V-Lはんだ付けチューブ炉は、最も低い動作圧力を発生させるのに適しています。この真空機能により、最高純度のガス雰囲気を得ることができます。 V-Lは垂直に設置された管状炉で、試料を入れた石英管の上に炉床を昇降させるだけでなく、試料の装填と取り出しを自動制御します。石英管は炉に接続されていますので、はんだ付け炉に装填する際には、石英管と炉床を上方に持ち上げて、サンプルエリアに自由にアクセスします。試料を装填した後、石英管と炉床は下降して所定の位置に固定され、高真空動作が可能な熱処理工程に入ります。また、加熱後に炉床を上方に持ち上げて石英管から離し、真空、大気、不活性ガス雰囲気中で試料を急冷することもできます。 はんだ付け炉は、CrFeAlワイヤーエレメントとセラミックファイバーの絶縁体を使用しています。温度は熱電対で監視・制御されます。最高温度は石英管によって制限されており、真空運転時には1050℃にもなります。石英管は上部が閉じられており、下部は試料を入れることができるように開放されていて、ポリマーシールで真空システムを取り付けることができます。使用可能なスペースは、直径180mm、高さ300mmで、約2リットルの容量があり、迅速に排気することができます。また、石英管を採用しているため、非常にクリーンな操作空間を実現しています。さらに、V-Lは急速冷却が可能で、ユーザーが炉にアクセスしやすいように設計されています。 5 x 10-6 mbar以上の高真空レベルを実現しています。ガスは様々な注入装置や制御装置によって制御されます。真空は要求される真空度に応じて様々なポンプステーションで供給されます。 標準仕様 最高の純度（6N以上）で精密に定義された雰囲気 高い真空品質 品質管理用データ記録 アプリケーション例 CIM, MIM, annealing, soldering, ろう付け, クエンチング, ラピッドプロトタイピング, 乾燥, 合成, 昇華, 焼戻し, 焼結, 熱分解, 脱気, 脱脂