APPLICATIONS:
半導体ウエハ洗浄(ウェットベンチ)プロセス
フォトレジスト除去溶剤の加熱
ウェーハリンス用純水加熱
ウェーハ乾燥用の空気、窒素の加熱
酸、IPA、Piranha、NMPなどの加熱
シングルパスまたは循環システムで使用可能
特徴と利点
流体経路が発熱体に接触しない
メディアはPFA(テフロン®)製のフローチューブに隔離されている(高純度加熱
危険な液体や気体の安全な加熱を可能にする
フローチューブは、多くの腐食性溶剤にも使用可能
フローティングチューブは現場で交換可能(サービスコール不要
標準的な制御(PID、PLC、マルチループなど)に対応
本体はテフロン®コーティングされており、最高のクリーン度を実現
セルフドレイン式のフローチューブと長寿命の発熱体を採用
仕様となっています。
電源
1.合計5kW~合計4.5kW
電圧レンジ120 - 415 V
最大ライン電流: 30 A/回路
チュービング
外径:0.375インチ(3/8インチ)(9.52mm
.031"ウォール(0.80 mm
プロセスチューブ全体の長さ:190" (4826 mm)
PFA(パーフルオロアルコキシ)/テフロン®(標準
高純度PFA(アップグレードオプション
最大圧力: 4.82 bar (70 psi)
ボディ
アルミニウム(ブラックテフロン®保護膜付き
エンクロージャー
NEMA 7(防爆)対応
最高使用温度。
200°C (392°F)
センサー
KまたはJタイプの熱電対を標準装備(数量3
プロセスコントロール用1個
ハイリミット保護用1個
チューブ温度保護用に1個
利用可能なアクセサリー
絶縁ジャケット
ストレートユニオンフィッティング
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