水用加熱器 PUR-X 2000

空気持続循環式防爆

APPLICATIONS: 半導体ウエハ洗浄（ウェットベンチ）プロセス フォトレジスト除去溶剤の加熱 ウェーハリンス用純水加熱 ウェーハ乾燥用の空気、窒素の加熱 酸、IPA、Piranha、NMPなどの加熱 シングルパスまたは循環システムで使用可能 特徴と利点 流体経路が発熱体に接触しない メディアはPFA（テフロン®）製のフローチューブに隔離されている（高純度加熱 危険な液体や気体の安全な加熱を可能にする フローチューブは、多くの腐食性溶剤にも使用可能 フローティングチューブは現場で交換可能（サービスコール不要 標準的な制御（PID、PLC、マルチループなど）に対応 本体はテフロン®コーティングされており、最高のクリーン度を実現 セルフドレイン式のフローチューブと長寿命の発熱体を採用 仕様となっています。 電源 合計5kW～合計7.9kW 電圧範囲： 200 - 480 V 最大ライン電流：回路あたり30A チュービング 外径：0.375インチ（3/8インチ） (9.52 mm) .031"ウォール（0.80 mm プロセスチューブ全体の長さ：325インチ（8255mm PFA（パーフルオロアルコキシ）／テフロン®（標準 高純度PFA（オプション・アップグレード 最大圧力：70psi（4.82バール 本体。 アルミニウム（ブラックテフロン®保護膜付き エンクロージャー NEMA 7（防爆仕様 最高使用温度。 200°C（392°F センサー KまたはJタイプの熱電対を標準装備（数量3 プロセスコントロール用1個 ハイリミット保護用1個 チューブ温度保護用に1個 利用可能なアクセサリー 絶縁ジャケット 圧縮フィッティング