Tropel® UltraFlatTM 200マスクシステムは、フォトマスク業界向けに特別に設計されています。 この製品は、常に締め付けられるマスク平坦性仕様の測定不確実性を最小にします。 デバイスの収縮機能には、平坦なウェーハだけでなく、平坦なマスクが必要です。
UltraFlatTMシステムは、基板研磨、フィルム応力の分析のためのコーティングおよびパターン化、検証など、製造および使用のすべての段階におけるフォトブランクおよびフォトマスクの平坦度を測定するために使用されます。
UltraFlatTMシステムは、ほぼ正常入射干渉計、岩石固体構造設計、最先端の光学製造技術、Tropelの有名な位相シフト解析ソフトウェアを利用して、20ナノメートルの測定不確実性を実現します。
このシステムは、米国国立標準技術研究所(NIST)トレーサブルで、SEMI規格に準拠した測定を提供します。 自動フォトマスク処理および測定構成も利用できます。
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