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特徴
タイプ
真空
研究所 / プロセス
加工
詳細
水平薄膜蒸発器 薄膜の水平配置は、垂直配置と異なり、装置内での生成物の滞留時間を制御できるため、蒸発速度を上げることができ、さらに連続反応や反応蒸留を行うことが可能です。 利点 連続的な蒸留 高い蒸発率 連続反応や反応性蒸留に適しています。
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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。
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