磁電管スパッタリング式貯蔵マシン Discovery 635

生産実績のあるDiscoveryプラットフォームは、最大300mmまでの基板を扱うことができます。クラスタ構成により、多層膜や酸素に敏感なアプリケーション、高スループット要件に適しています。このプラットフォームは、DC、パルスDC、RFスパッタリングに対応しており、高い均一性のためのシングルカソード構成や、共焦点コスパッタリング機能を備えています。デントン独自のPEM技術により、金属酸化物や窒化物の高速反応性スパッタリングが可能です。 また、イオンアシスト蒸着も可能です。独立した電空ソースシャッターとチムニーアセンブリにより、ソース材料のクロスコンタミネーションを防止することができます。低温およびターボを含む複数のポンプ構成とポンプ配置オプションにより、お客様のプロセスおよび生産性要件を満たすために必要な柔軟な設計が可能です。 大量生産 高度な光学フィルター 医療用インプラントの生体適合性コーティング 薄膜抵抗器・センサー ウェハー金属膜・誘電体膜 大面積ハイブリッド回路製造 化合物半導体のメタルコンタクト 研究開発 Discoveryマグネトロンスパッタリングシステムは、汎用性と信頼性を備え、大量生産ニーズに対応します。この薄膜形成装置は、大量生産用の単一カソード高均一性構成と、均一なコーティングのためのオフセット、ターゲットと基板間の距離および角度の3軸調整を備えた最大4つの共焦点カソードのいずれにも対応できます。各カソードは、異なる成膜方法またはターゲット材料に最適化することができます。