チャンバー炉 ICBP® NANO series

焼結炭窒化クエンチング ガス

ICBP®ナノは、ECMテクノロジーの真空浸炭・真空浸炭窒化シリーズの中で最も新しい製品。 ICBP®ナノは、生産ラインに組み込むことができ、それによりサイクルタイムを短縮し、機械加工から熱処理までのフローをシンプルにすることができます。 ICBP®ナノは、3つの加熱セルを縦に重ねたモジュールと、ヘリウムまたは窒素使用の冷却用ガス焼入れセルからなります。（加熱モジュールを2基にすれば、加熱セル6基に増設可能）加熱セルを縦に重ねたことで工業生産用真空設備の省スペース化が図れました。 プラス＆メリット この設備は、低歪変形を達成しつつ、チャージ間の優れた均一性、再現性を保証します。各加熱セルは個別制御で、温度、ガス注入、熱処理条件をセルごとに変えて処理できます。フレキシブルかつコンパクトな設備で、生産性改善と熱処理の質向上を保証します。 アプリケーション 真空浸炭 真空浸炭窒化 ガス焼入れ ヘリウム (He) または窒素 (N2) 最大圧力10バール（オプションで20バール） 高温焼戻し 真空焼鈍 ろう付け 焼結