チャンバー炉 JETFIRST

熱真空コンパクト

ECM JetFirst RTPシステムは、コンパクトで堅牢なランプ炉であり、直径100mmから300mmまでの幅広い材料基板と構造（電子グレードSi、スチールガラス、SoG c-Si、III-V、II-VI、ゲルマニウム、石英、セラミックなど）のラピッドサーマルアニール（RTA）に適しています。 このランプ炉は金属製水冷リアクターチャンバーを装備しているため、超低メモリー効果があります。 プラスアルファのメリット ジェットファーストシステムは大学や研究所の要求を満たすために開発されたランプ炉です。温度測定制御システムは、温度範囲全体にわたって正確で再現性のある熱制御を提供します。ランプアレイ、上部フランジ、クォーツウインドウは回転式トップリッドに取り付けられており、チャンバーへのフルアクセスが可能なため、ウェハーの出し入れが容易です。 炭化ケイ素でコーティングされたグラファイトサセプターは、様々な小サンプルや化合物半導体の処理に利用できます。複数のプロセスを同じリアクターで行う必要がある場合、クロスコンタミネーションを避けるために、ご要望に応じて予備のプロセスチャンバーを提供することができます。ジェットファーストの高い信頼性と高性能特性は、小規模生産を可能にします。 プロセスは大気圧または真空下で行うことができます。PIDシステムは、温度範囲にわたって正確で再現性のある熱制御を行います。RTPプロセス制御は、レシピプログラミングとRTPシステム全体のモニタリングを可能にするPIMS専用スーパーバイザーを実行するコンピューターを介して行われます。