リニアポジショニングステージ METIS
電動式2軸空気軸受

リニアポジショニングステージ - METIS - ETEL S.A. - 電動式 / 2軸 / 空気軸受
リニアポジショニングステージ - METIS - ETEL S.A. - 電動式 / 2軸 / 空気軸受
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特徴

方向
リニア
タイプ
電動式
軸の数
2軸
その他の特徴
高精度, 空気軸受
ストローク

最少: 12 mm
(0.472 in)

最大: 321 mm
(12.638 in)

速度

0.02 m/s, 0.1 m/s, 1.2 m/s
(0.07 ft/s, 0.33 ft/s, 3.94 ft/s)

繰返し精度

0.25 µm, 0.3 µm, 0.4 µm

積載量

625 kg
(1,377.89 lb)

詳細

METISをご紹介します。METISは、ステップ・スキャン・アプリケーション用に設計された最先端のハイブリッド平面メカニカル/エア・ベアリング・プラットフォームで、4自由度にわたって比類のない精度、移動・定着時間、速度安定性を保証します。 METISプラットフォームは最先端のハイブリッド平面メカニカル/エアベアリングプラットフォームで、X、Y、Z、θ方向の4軸移動が可能なステップおよびスキャンアプリケーション専用です。全移動範囲にわたるダイナミックな平坦性と双方向の繰り返し精度により、高精度な作業に最適です。METISは、クリティカルディメンションや薄膜測定、ウェーハスクライビング、ウェーハレーザーサーマルアニールなどのウェーハプロセス制御アプリケーションで広く使用されています。また、Back End Of Lineリソグラフィ装置(マスクアライナー)や一部のウェーハダイシングアプリケーションにも適しています。 METISは信頼性の高い性能を提供し、先端半導体およびフォトニクス・アプリケーションに不可欠なツールとなっています。 特徴 METISはメカニカルベアリングとエアベアリングテクノロジーを組み合わせ、究極の精度と柔軟性を実現しています。 METISはX、Y、Z、θ軸の移動が可能で、ステップやスキャンのアプリケーションに最適です。 このプラットフォームは、全移動範囲にわたって高い動的平坦性と高い双方向繰返し精度を提供します。 METISは、ウェーハプロセス制御、ウェーハスクライビング、レーザーサーマルアニーリングに使用されています。 このプラットフォームは、高度な半導体およびフォトニクス・アプリケーションに信頼性の高い性能を提供します。 METISはバックエンドリソグラフィ装置やウェーハダイシングアプリケーションにも適しています。 METISの主な特長は以下の通りです: フラットな動き エアベアリングテクノロジーにより、全移動範囲で維持されます。

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カタログ

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。