このプラットホームは歩み、適用をスキャンするために専用されている雑種の平面の機械/空気軸受けプラットホームである。それはX、Y、ZおよびΘの方向で動く6本の斧のプラットホームである。完全な旅行上の動的平坦、また二方向の反復性は主変数である。
このプラットホームは現在使用される:
- 重大な次元および薄膜の度量衡学のようなウエファーのプロセス制御塗布。
- ウエファーのけがき
- ウエファー レーザーの熱アニーリング
それはまた背部行末の石版印刷機械(マスクのアライナ)とウエファーのさいの目に切る塗布で使用されるかもしれない。
このプラットホームは特色になる:
- 空気軸受けによって与えられる動きの平坦
- Θの無制限の回転
- 二重Zの統合:/荷を下すのための粗い旅行負荷および焦点のadjustementのための良い旅行
- Buit Z (特許審議中)の重力の補正器
- ヨーイングの訂正はわずかにY1およびY2モーターを移すことによってすることができる
- 更に十分にETELによって制御される活動的な分離システムと統合することができる
- XおよびYの旅行は性能である限定とより長く作ることができる
主要な指定:
- 総打撃:ZのX-Y x12 mmのための320のmm
- 速度:X-Yのための1.2 m/s、Zのための0.1 m/sおよびTのための15.7 rad/s
- 加速:ZのためのX-Yのための1.2 g、0.2 gおよびTのための104.7 rad/s2
- 位置の安定性:X-Yのための±25 nm、TのためのZのための±15 nmおよび±0.2 arcsec
- 二方向の反復性:X-Yのための±0.4 µm、Zのための±0.3 µmおよびTのための±2 arcsec
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