UV-NILリトグラフシステム EVG®7300

EV Group、かつてない柔軟な多機能マイクロ・ナノインプリントソリューションで 大量の光学デバイス製造を可能に ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）、レンズ成形、レンズスタッキング（UVボンディング）など 複数のUVベースプロセスを単一のプラットフォームに統合した最先端のEVGソリューション　-　 EVG®7300 MEMS、ナノテクノロジー、半導体向けのウェーハ接合およびリソグラフィ装置のリーディングサプライヤーであるEV Group（本社：オーストリア ザンクト・フローリアン、以下：EVG）は、EVG7300 全自動SmartNILナノインプリント/ウェーハレベル・オプティクス装置を発表しました。EVG7300は、ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）、レンズ成形、レンズスタッキング（UVボンディング）などの複数のUVベースプロセス機能を単一プラットフォームに統合した同社の最先端のソリューションです。この量産対応型多機能システムは、高度な研究開発やお客様の生産ニーズに合わせて、マイクロ・ナノパターニングや機能層積層を含む新規アプリケーションに幅広く対応するよう設計されています。これらには、ウェーハレベル・オプティクス（WLO）、光学センサーやプロジェクター、車載照明、拡張現実ヘッドセット用の導波路、バイオ・メディカルデバイス、メタレンズやメタ表面、そしてオプトエレクトロニクスなどのアプリケーションが含まれ、かつ最大300 mmのウェーハサイズに対応します。高精度の位置合わせ、高度なプロセス制御、および高スループットといった特長を生かし、さまざまな形状かつ高精度のナノ・マイクロ光学部品、およびデバイスの大量生産ニーズに応えます。