RACK-H2水素発生装置は、独自の電解質膜技術(PEMセル)100%フルチタンを使用し、高品位純度のH2ガスを発生させます。
RACK.MFシリーズ独自の低温二重式再生ドライヤーは完全メンテナンスフリーで、24時間連続運転が可能です。装置を起動するたびに内部リークを自動的にチェックし、運転パラメーターを常に制御することで、最大限の安全性を保証します。
RACK.MF.H2シリーズの乾燥システムには、独自の低温デュアルダイナミック再生ドライヤーを使用しています。
クロマトグラフ結果の向上
キャリアガスとして水素を使用することで、低温溶出が可能となり、クロマトグラフのカラム寿命が延びます。キャリアガスに水素を使用することで、安価なヘリウムよりも高速・高感度な分析が可能です。
よりも高速で高感度です。分解能を低下させることなく、25%から35%のランタイム短縮が可能。
ラボの効率アップ
純度が保証されたガスを常時供給できるため、シリンダー交換による分析の中断がなく、装置の再校正の回数も減らせます。
安全性の向上
50ml以下の限られた内容積のため、ボンベの使用が危険または禁止されている場所でも、ガス発生器を安全に使用することができます。万が一、ガス漏れや故障が発生した場合にも、試験済みの安全技術を適用することで装置を停止させることができます。
簡単な設置
ガス発生器は実験室、実験台、実験台の下などに設置することができ、ボンベから長いガス配管を確保する必要がありません。
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