UVレーザー刻印機 LSU3EA

ガラスセラミック布地

UVレーザーの集光点と熱影響部が小さいため、355nmの紫外線に対する吸収性が高く、多くの材料に適しています。 UVレーザーの集光点と熱影響部が小さいため、355nmの紫外線に対する吸収性が高く、多くの材料に適しています。 高性能な紫外線レーザーと優れたレーザービーム品質が、お客さまに絶妙なマーキング効果をもたらします。 ロータリーテーブルの採用により、加工時間の短縮を実現。回転テーブルの採用により、ユニット加工時間の短縮が可能となり、お客様のメリットも飛躍的に向上します。 安全フードを装備し、誤操作によるオペレーターの身体的損傷を回避し、安全リスクを最小限に抑えます。 小型で冷却性能に優れています。 各種ガラス、液晶パネル、繊維、チップセラミックス、半導体ウェハー、ICグレイン、サファイア、ポリマーフィルムなど、特殊材料のマーキング、切断、加工に広く使用されています。