半導体産業チェーンの中流ウェハー製造企業や下流のパッケージング・テスト企業向けに、独自に開発した多チャンネル明視野・暗視野平行検出システムを採用し、半導体ウェハーや結晶粒の外観欠陥をグラフィックで検出する。
製品の利点
- 豊富なサイズバリエーション
本装置は、4~8インチのパターン付きウェハーに対応可能。
- 様々な欠陥を検出可能
スクラッチ、裏抜け、色差、クラック、スクラッチ、金属残渣、メタルロスなどの欠陥を検出
- 高精度分解能
システム分解能 0.2-0.8 μ m
- 高速検出
パターン付きウェハ欠陥数200以下の場合、15分/枚
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