アクティブプローブ Holo-Carb-T
ガス高温用炉用

アクティブプローブ - Holo-Carb-T - La Fornitecnica S.r.l. - ガス / 高温用 / 炉用
アクティブプローブ - Holo-Carb-T - La Fornitecnica S.r.l. - ガス / 高温用 / 炉用
アクティブプローブ - Holo-Carb-T - La Fornitecnica S.r.l. - ガス / 高温用 / 炉用 - 画像 - 2
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特徴

タイプ
アクティブ
物質的特性
ガス
応用
高温用, 炉用
分野
プロセス, 工業用
その他の特徴
ジルコニア

詳細

炭素電位制御に適した酸素プローブ。 主な特徴: •高精度(± 0.03% C) •他のメーカーのプローブや計測器と完全に交換可能 •異なるサイズが利用可能 •簡単な取り付け •安価なメンテナンス •高い信頼性 一般用途: 熱処理プロセス中の炭素電位制御大気 熱処理浸炭および炭窒化プロセスでは、炭素ポテンシャルの制御は、プロセスの成功のために重要な役割を果たします。 信頼性と正確な機器を持つことは、重要かつ定性的な利点を提供します。 Holo-Carb-T酸素プローブを使用すると、瞬時に連続的な価値を得ることができます。 センサは、酸素濃度と温度に比例した電圧を生成し、所定の温度での炭素電位を得る。 利用可能なサイズ: •T 600 •T 900

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。