掃除用溶媒
電子機器用エッチング残渣用

掃除用溶媒 - Fujifilm NDT Systems/富士フイルム - 電子機器用 / エッチング残渣用
掃除用溶媒 - Fujifilm NDT Systems/富士フイルム - 電子機器用 / エッチング残渣用
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特徴

機能
掃除用
応用
電子機器用, エッチング残渣用

詳細

エッチング液 独自のエッチング液を幅広く取り揃えています。 当社は、幅広い希釈倍率のフッ化水素(HF)、界面活性剤あり/なしの緩衝酸化物エッチング液(BOE)、混酸エッチング液(MAE)および特殊金属エッチング液を提供しています。 製品ラインアップ • - 緩衝酸化物エッチング液 o - 富士フイルムは、複数のNH4F:HF比で利用可能な、厳しい測定仕様範囲で緩衝エッチング液を正確にブレンドする高度な機能を備えています。 o - SiO2膜のエッチングに使用されます。 o - 拡散前およびメタライゼーション前の表面処理として使用されます。 o - 高純度の49%フッ化水素酸および高純度40%フッ化アンモニウムから製造されています。 o - 界面活性剤あり/なしで使用できます。 • - 希釈フッ化水素(HF) o - 富士フイルムは、厳しい測定仕様範囲で希釈フッ化水素(HF)を正確にブレンドする高度な機能を備えています。 • - フレックルエッチング o - アルミニウム-シリコン-銅層をエッチングした後に残ったシリコンの小塊を除去するのに使用します。 • - 混酸エッチング液 o - シリコンの等方性エッチング(単結晶とポリ結晶)に使用します。 • - 特殊パッドエッチング液 o - 熱分解蒸着およびスパッタ処理された最終的な不動態化ガラスをエッチングして、ワイヤ結合用の半導体結合パッドを露出するために使用します。 o - OHS界面活性剤あり/なしで使用できます。 • - 特殊金属エッチング液 特殊金属層を選択的に除去するために、富士フイルムでは以下のような様々な特殊エッチング液を提供しています。 • - 特殊アルミニウムエッチング液:アルミニウムメタライゼーション層用の液浸エッチング液 - 富士フイルムのアルミニウムエッチング界面活性剤(AES)あり/なしで利用可能です。

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。