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フェムトセカンドレーザー
Han's Laser Technology Co., Ltd
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フェムトセカンドレーザー
HPF-50-IR
固体
マーキング
切断
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特徴
操作方法
フェムトセカンド
光源
固体
応用
マーキング, スクライビング, 切断, ドリル, ガラス産業用, プロセス, 金属用, プラスチック産業用, 薄膜析出
その他の特徴
高出力, 半導体式
詳細
高度なチャープパルス増幅技術により、回折限界に近いフェムト秒レーザー出力を実現。半導体や家電の分野でバッチ使用されており、優れたプロセスと良好な安定性を持っています。 1) フェムト秒パルス 2) 高いパルスエネルギーとピークパワー 3) 回折限界に近いビーム品質 4) 高い安定性と信頼性 応用例 1) 切断、穴あけ、スクライビング (ガラス、シリコン、セラミック、FPCB) 2) 薄膜パターン(金属、薄膜) 3) マーキング(ガラス、シリコン、セラミック、金属、プラスチック)
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