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PECVD (SiNx)
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特徴
特性
自動
詳細
本装置は、結晶シリコンウェーハの表面に反射防止膜を塗布し、反射を抑えてセル効率を最大化するための装置です。 仕様 ハイスループット:6,776枚/時(640枚/艇)。 サイクルタイム:34分 稼働率: 97
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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。
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