物理蒸着と化学蒸着 (PVDとPACVD) は、処理する部品の表面に材料を蒸着させる環境に優しい技術です。
これらの蒸着法により、以下の特性をもつコーティングが得られます。
- 数ナノメートルから数十ミクロンまでの厚み
- 1000~4000Hvの硬さ
これらの蒸着法は、コーティング材料を選択することで、処理部品に以下の特性を与えます。
- トライボロジー特性: 極めて小さい摩擦係数
- 機械特性: 極めて高い硬さ
- 電磁シールド特性
- 光学特性
- 導電特性
- 抗菌特性
- 装飾特性
- その他
このプロセスは、プラズマを生成する真空容器内で行われます。
HEF グループは、主に以下に述べる3つのプラズマ生成方法を使用し、高品質なコーティングを形成しています。
- PEMS™
PEMS®技術により、トライボロジー用途の非常に緻密な膜をコーティング出来ます。HEF グループは、このプロセスを、なかでも摩擦係数の小さい、硬いあるいは極めて硬いコーティング層形成のために使用しています。また、PEMS™ 技術は用途に応じてコーティング層の硬さ、密度および強度を変えることができます。
- CAM™
最先端の真空技術であるCAM™技術は、極めて低い温度で非常に摩擦係数が小さく硬いコーティングを可能にする、まさに進歩と呼べる技術です。
- M‐ARC™
この方法は、従来のアーク蒸着法を進化させたものですが、一般的にこの種のコーティングに付き物の滴を大幅に減らしています。