二次電離質量分析計 SIMS Workstation

分析用移動式高感度

薄膜深さ方向プロファイルのための超高真空表面分析システム ヒデンアナリティカルは、高性能な動的および静的SIMS（二次イオン質量分析）分析用の非常に汎用性の高い高感度装置を提供し、最先端のアプリケーションにおける新しいレベルの精度を解き放ちます。SIMSワークステーションは、広いレンジと正（+ve）および負（-ve）の二次イオンの取得と同定能力により、組成分析および深さ方向のプロファイリング用途の包括的なソリューションとなっています。 包括的なSIMSパッケージで+veと-veのイオン分析を同時に行うために、Hiden Analyticalは革新的なHi5 SIMSワークステーションも開発しました。詳しくは下記の製品資料をご覧ください。 二次イオン質量分析法（SIMS）は、数百ナノメートル（nm）の深さから1原子層まで、物質の最表層を調べるために開発された最も感度の高い技術の1つです。10億分の1（ppb）単位の組成データを得ることができ、真空状態で確実に試験できる材料であれば、どのような材料にも対応することができます。そのため、セラミックス、金属、有機材料、ポリマー、半導体などの分析にSIMSが日常的に使用されています。 この技術は、ダイナミックSIMSとスタティックSIMSという2つの異なる手法に分けられます。ダイナミックSIMSとスタティックSIMSは、それぞれ一次イオンビームを使用し、真空中で試料に衝突させ、表面から極微量の物質を溶出させますが、この溶出物質の一部がイオン化されます。