容器内に存在する成分やプロセスから発生する成分を検査するためのシステム
UHVから0.01 Pa (10-4 mbar)までの部分圧測定範囲。
差動ポンプを備えたサンプリングシステムは、真空プロセスモニタリングのためのサンプリング圧力範囲を拡大し、必要に応じてガス分析アプリケーションを行うことができます。
Hidenの残留ガス分析計はすべてアプリケーションテストと校正を受け、最高品質の性能を提供します。また、3年間の保証と生涯サービスサポートがあります。
残留ガス分析
リーク検出
脱着
アウトガス研究
ベークアウトサイクル
ポンプ性能
プロセスガス汚染物質
薄膜光学コーティング
質量範囲オプション50、100、200、300、510 amu。
検出器オプションにより、高真空から超高真空までの感度が得られます。
安定性(24時間の高さ変化±0.5%以下)
RS232、USB、イーサネットLANによる複数システムでのMASsoftコントロール。
ヒストグラム、トレンド分析、アナログピーク表示への迅速なアクセス
トレンド、ヒストグラム、アナログピークを複数のウィンドウで表示するミックスモードスキャンニングが可能。
トレンド解析データをグラフと表で同時にリアルタイムに表示可能
マウス操作によるピーク高さ識別用カーソル
リアルタイムバックグランドサブトラクト、自動マススケールアライメント
ASCIIフォーマットおよびすべてのWindowsデバイスへのデータエクスポート機能
netMASsoft、ウェブブラウザからRGAを操作するためのオンボードウェブサーバー
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