質量分析計用イオン源 HAL 201 RC

厳しいUHVアプリケーションに対応した残留ガス分析装置 Hiden RGA for UHVは、UHVでの重要な測定が要求される厳しいUHVアプリケーションでの残留ガス分析用に設計・構成されています。 残留ガス分析 リーク検出 脱着 アウトガス研究 ベークアウトサイクル ポンプ性能 プロセスガスのコンタミ HAL 201 RCには、すべてのイオン源に金メッキ仕様が標準装備されています。金メッキ仕様のイオン源は、イオン源からのアウトガスを最小限に抑えることができ、全圧が5×10-10mbar未満のアプリケーションに適しています。 EPICSは世界中の多くの光源で使用されている標準的な装置制御ソフトウェアで、Hiden HALシステムはEPICSソフトウェアドライバと完全な互換性があります。 金メッキを施したイオンソースでソースのアウトガスを最小化 酸化膜付きイリジウムフィラメントを採用した電子衝撃式イオナイザー ファラデー/シャントロン電子多重検出器を2基搭載 最小検出可能分圧5×10-14mbar 最大動作圧力1 x 10-4mbar