自動標本準備システム ArBlade 5000

走査型電子顕微鏡用イオンビームミリング冷却

日立イオンミリング装置の最上位機種。 ついにクラス最速の断面ミリングレート を達成しました。 高スループット断面ミリングによって、電子顕微鏡用の断面試料作製がさらに身近になりました 価格：お問い合わせください 取扱会社：株式会社 日立ハイテク *ArBlade®は、日本国内における株式会社日立ハイテクの登録商標です。 断面ミリングレート1 mm/h*1到達！ イオンビームのさらなる高電流密度化を図った新開発のPLUSIIイオンガンによりミリングレートが大幅に向上*2しました。 *1 マスクエッジからSiを100 μm突出させて1時間加工した際の最大深さ。 *2 当社製品（IM4000PLUS:2014製）比で2倍のミリングレートを実現。 断面ミリング結果比較 （試料：シャープペンシルの芯、ミリング時間：1.5時間） 最大断面ミリング幅 8 mmまで拡張！ ワイドエリア断面ミリングホルダにより断面ミリング加工幅を8 mmまで拡張できるので、広領域ミリングが必要とされる電子部品などには有効です。 ハイブリッドタイプのミリング装置 IM4000シリーズで定評のあるハイブリッドタイプ（断面ミリング、フラットミリング®）のイオンミリング装置です。 これにより目的に応じた試料前処理が可能です。 *フラットミリング®は、日本国内における株式会社日立ハイテクの登録商標です。 断面ミリング 割断や機械研磨では困難な柔らかい材料や複合材料の断面作製 フラットミリング 機械研磨試料の最終仕上げや試料表面の清浄化