自動標本準備システム IM4000II

走査型電子顕微鏡用イオンビームミリング冷却

日立イオンミリング装置のスタンダードモデルであるIM4000IIは、断面ミリングと平面ミリング（フラットミリング®*1）に対応しています。冷却温度調整機能や雰囲気遮断ホルダユニットなど、各種オプションにより、さまざまな試料の断面試料作製が可能です。 *1 フラットミリングⓇは、日本国内における株式会社日立ハイテクの登録商標です。 中小企業等経営強化法に基づく支援措置の対象製品（生産性向上設備（A類型））です。 高ミリングレート IM4000IIは500 µm/h*1以上の断面ミリングレートを実現したイオンガンを搭載しています。 硬質材料の断面試料作製に有効です。 断面ミリング時のスイング角度が変わると、加工幅や加工深さが変化します。下図はSiウェハをスイング角度±15°で断面ミリングしたときの結果です。スイング角度以外は上記加工条件と同一です。上記結果と比べて加工深さが深いことがわかります。 深部に対象構造がある試料の迅速な断面作製には有効です。