プラズマを利用した半導体薄膜プロセスにおいて、エンドポイントの検出またはプラズマのコンディション管理を行うための、発光分析方式のエンドポイントモニタです。
新開発のアルゴリズム“Rupture Intensity”により微弱な信号変化から的確にエンドポイントを検出できます。
微弱な発光変化を捉えるため、感度を大幅に改善。
またノイズ耐性を向上させることにより、24時間稼動する製造ラインの過酷な環境化で高い安定動作を確保します。
製造元:株式会社堀場製作所
開口比 F/2の明るいグレーティングを採用
2048Ch 高感度高分解能 裏面入射型CCD ラインセンサ搭載
高度なプロセスコントロールを実現するソフトウェア Sigma-P
デモンストレーションをご希望されるお客様へ
弊社ではお客様のシステムとマッチし安心してご採用いただく目的にEV-140C一式をお貸出いたします。
お手数ですが、下記のアイコンをクリック頂き必要事項を入力してください。
弊社担当者より、ご希望日や必要なシステムなどのご確認をさせていただきます。