LED製造プロセスや光デバイス製造プロセスなどで幅広く採用されているMOCVD(有機金属気相成長法)。このMOCVD装置には液体/固体材料が利用され、一般的にはバブリング方式により気化ガスとしてチャンバに供給されます。この材料ガス供給ラインにおいて、安定した成膜プロセスの実現のため、リアルタイムのガス濃度モニタリングが重要とされています。ガス濃度モニタ IR-300 Seriesは、MOCVD装置における材料ガス供給ラインに導入され、インラインの高速ガス濃度モニタリングを可能としました。材料ガスの安定供給をサポートします。
リアルタイムモニタリング
ガス濃度変化に追随する応答速度と繰り返し性
複数検量線機能(オプション)
最大3種類の測定ガス/フルスケール濃度(=検量線)が搭載可能
マルチディスプレイ機能
濃度モニタリングや供給ラインの情報を現場で確認するため、本体上部のマルチディスプレイとモードLEDの組み合わせによるマルチディスプレイを搭載。
通信機能
DeviceNet通信およびデジタル/アナログ信号に対応した通信方式をサポート
コンパクト&シンプル設計
両間サイズ124 mm 取り付け姿勢も制限がないコンパクト設計です。
IR-300 では、高輝度・長寿命な光源の採用と、電気信号処理の高速化により、応答速度と繰り返し性が向上しました。(当社従来比2倍以上)これによりガス濃度変化に追随する連続インラインモニタリングが可能となりました。
※なお、安定したモニタリングのため、測定前にはゼロ校正(1回/日以上)の実施を推奨します。