半導体製造におけるガス制御はプロセス結果を左右する重要な要素の一つです。近年は先端半導体デバイスの微細化・三次元構造化といった進化に伴い、生産性や歩留まり向上へ寄与するガス制御性能の改善要望が日々高まってきています。堀場エステックはCRITERION™シリーズの最新機種として「D700」を開発し、流体計測制御技術を通して更なる顧客満足を目指します。
装置上でのガスおよび流量の仕様変更が可能
プロセス最適化のための柔軟性を提供します。
100ミリ秒以下の高速応答
高い生産性とプロセス性能の向上を実現します。
小流量用MRMG機能(Bin101~Bin105)
小流量を必要とするプロセスへの柔軟な対応を可能にします。
PFAバルブによる優れたバルブシャットオフ性と耐腐食性
ダウンタイムの短縮と歩留まりの最適化を実現します。
ステートモニター機能
より多くの内部データを提供し、よりスマートな故障予測を可能にします。