プログラム可能な真空リフローはんだ付けオーブン、加熱エリアは直径200mm。
真空リフロー炉には、セラミックでコーティングされた堅牢なアルミ製のホットプレートが装備されています。ホットプレートの下には、水冷式のプレートが取り付けられています。冷却時には水冷プレートを持ち上げてホットプレートに押し付け、急速に冷却します。この機能により、真空下での冷却も可能です。
最高温度 - 400°C
加熱面積 - ∅ 200 mm
ヒーティングプレート(固定):アルミニウム
ヒーティングプレート上のクリアランス - 50 mm
昇温/降温速度 - 120~150℃/分
制御偏差 - +/- 0.5°C
発熱体-加熱プレートに組み込まれたコイルヒーター
加熱制御 - すべてのヒーターに共通
加熱プレートの冷却 - コールドプレートのリフトアップ
温度計測 - 固定式熱電対×1、自由配置式熱電対Kタイプ×3
圧力測定 - 内蔵圧力トランスミッタ
最大真空度 - 5x10-2 mbar
ギ酸バブラー - 40ml容器、フロントパネルに内蔵
チャンバー本体の冷却-水/エチレングリコール-内蔵チラー
リッドビューイングポート - 80 mm
ディスプレイ - タッチスクリーン付き7インチLCD
PCソフトウェア - プロセスロギング、レシピ転送など
ユーザーインターフェース - リレーI/Oによるリモートコントロール
寸法 - レイアウト参照
重量 - 35 kg
電源 - 1相 / 190-240V, 50/60Hz
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