プログラム可能な真空リフローはんだ付け・ろう付け炉で、加熱面積は420x420mmです。
赤外線ランプはツーリングプレートの下と蓋の中にクロスして配置されています。420×420mmの正方形のツーリングプレートは、任意の素材で製作可能で、内部に特注の固定具用開口部を設けることもできます。ツールプレートを部品と一緒にチャンバー内に入れることができるので、連続生産に適しています。
チャンバーの底部からツールプレートに向けて窒素を吹き付けることで、プロセスの冷却を行います。
プロセス環境 - 窒素、不活性ガス、ギ酸、フォーミングガス
最高温度 - 450°C
加熱エリア - 420 x 420 mm
熱盤-取り外し可能:グラファイト、アルミニウムなど
熱盤上のクリアランス - 60 mm
昇温・降温速度 - 250℃/分
制御偏差 - +/- 0.5°C
発熱体 - 16個の赤外線ランプを2列に配置
加熱制御 - 各加熱ランプごとに個別/調整可能
加熱プレートの冷却 - 窒素フロー
温度計測 - 最大4本のK型熱電対を自由に配置可能
圧力測定 - 2つのゲージによるフルレンジ
最大真空度 - 1x10-2mbar (ターボポンプ使用時は5x10-6mbar)
ギ酸バブラー - フロントパネルにある40mlの容器、自動補充機能付き
チャンバー本体の冷却-水とエチレングリコールの混合液
蓋の覗き口 - 80 mm、シャッター付き
ディスプレイ - 7インチLCD(タッチスクリーン付き
PCソフトウェア - プロセスロギング、レシピ転送など
ユーザーインターフェース - リレーI/Oによるリモートコントロール
寸法 - レイアウト参照
重量 - 280 kg
電源 - 3相、国別
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