電気ファイバー束リトグラフシステム JBX-3200MV

28nm～22/20nm ノードマスク ・ レチクル制作用可変成形電子ビーム描画装置です。 最先端技術で高速、高精度、高信頼性を実現しています。 加速電圧50 kVの可変成形ビームとステップ＆リピートステージ方式を基本とした描画装置です｡ 特長 ステップ & リピート描画方式のメリットを生かし、描画ドーズ量変調機能、重ね描画機能等を組み合わせることにより、次世代マスク/レチクルのパターニングに求められる多種多様な補正に対応することができます。 導入実績 国内外のキャプティブマスクショップとマーチャントマスクショップ。