表面処理用プラズマ源 BS-80011BPG

表面処理用プラズマ源 - BS-80011BPG - Jeol
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特徴

特性
表面処理用

詳細

真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 特長 低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化します。 反応性蒸着ができ、特に酸化促進に効果を発揮します。 高密度プラズマがチャンバー内全域に拡散するため、大面積へハイレートで成膜が可能です。 フランジ取付けではなくチャンバー内へ内蔵するタイプで、さらにビーム照射角度を調整できるため、様々なレイアウトの真空装置へ搭載することができます。 既設の真空チャンバーへ後付けする事もできます。 用途例 プラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) • 蒸発粒子を高密度プラズマにより励起・イオン化、活性化した高エネルギー粒子を基板へ加速させ密着性の 高い緻密な薄膜を形成 • プラズマによる反応性蒸着 クリーニング 基板やフィルム表面の油脂やダストの除去 表面改質 基材表面の酸化・窒化・活性化処理 プラズマアシスト成膜時の効果 • 膜密度・屈折率の向上 • 耐環境性の向上 • 波長シフトの低減 • 低吸収膜(酸化促進) • 密着性の向上 • 表面平滑性の向上 • 膜応力の制御

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。
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