真空蒸着

本公司成功开发了在四面相向溅射法中实现高品质成膜的RAM阴极产品。 RAM阴极的特点是,可在低损伤、低温条件下成膜，而且可确保镀膜表面平滑气泡等缺欠较少。 RAM阴极的这些特点，使之可广泛应用于钙钛矿型太阳能电池、有机EL等各种领域。本公司的实验室内设有搭载RAM阴极的群集式溅镀设备，可对客户提供的基材进行镀膜试验。 实现了低损伤镀膜 使用传统的平板式溅镀法，靶材的溅射颗粒或反弹氩离子会直接撞击基板，镀膜时损伤非常大。 而使用RAM阴极镀膜时，粒子不会直接冲击基板，会均匀落至基材表面，可使镀膜时的损伤控制在最小程度。 可实现高品质镀膜 通过相向靶材飞散出的溅射粒子的相互碰撞，溅射粒子会进一步微细化。 细化后的粒子均匀成膜，所以镀膜表面平滑、气泡等较少。 实现很高的覆盖性 传统的溅镀方式只能让与靶材平行的面成为主要镀膜面。 RAM阴极通过变更镀膜条件，有效利用斜向溅射的粒子后，可在侧面上的成膜厚度达85%以上（膜厚度相对比） RAM阴极还可在不同条件下应用于更广泛的工艺。