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化学蒸着真空蒸着

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特徴

方法
化学蒸着

詳細

大面积垂直溅射设备 ・成膜有效范围 300mm×100mm ・设备配置 带有垂直 RAM 阴极的溅射室 ・成膜材料 TCO(ITO等)/金属(Cu等)/金属氧化物(NiO等)/C(DLC)/其他

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この販売者が参加する展示会

JIMTOF 2024
JIMTOF 2024

5-10 11月 2024 Tokyo (日本)

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