光学式検査機 Archer™ series

パターン付きウエハエレクトロニクス産業用欠陥

オーバーレイ測定システム Archer™ 750オーバーレイ・メトロロジー・システムは、製品上のオーバーレイ・エラーを正確にフィードバックすることで、最先端のメモリやロジック・デバイスの迅速な技術立ち上げと安定生産に貢献します。10nmの分解能を持つ波長可変性により、製造プロセスのばらつきがあっても正確で堅牢なオーバーレイ・エラー測定を実現します。Archer750イメージング・オーバーレイ・システムは、一般的にスキャッタロメトリーベースのシステムでのみ見られる生産性レベルで、高次スキャナ補正のためのサンプリングの増加やインラインモニタリングのための高いスループットをサポートします。高度なアルゴリズムと斬新なrAIM®オーバーレイターゲット設計により、ターゲットとデバイスのオーバーレイエラーの相関性が向上し、リソグラファーがデバイスのオーバーレイ性能を正確に追跡できるようになりました。 応用例 製品上オーバーレイコントロール、インラインモニタリング、スキャナクオリフィケーション、パターニングコントロール