温度測定システム EtchTemp series

ウェハー用

EtchTempシリーズは、プラズマエッチングプロセスの環境が生産ウエハに与える影響を捉える、ウエハ温度その場測定システムです。EtchTemp-SEは、シリコンプラズマエッチングプロセス中の温度モニタリングを可能にする保護膜を備えた測定システムです。EtchTemp-SEワイヤレスウエハは、製品ウエハの状態に近い温度条件を特徴付けることにより、プロセスエンジニアがエッチングプロセス条件を調整し、前工程のプラズマエッチングチャンバーの認定、適合、PM後の検証を行うことを支援する。 アプリケーション プロセス開発、プロセス検証、プロセスツール監視、プロセスツール検証、チャンバーマッチング、プロセスツールマッチング 誘電体プラズマエッチング（EtchTemp）、導体プラズマエッチング（EtchTemp-HD, EtchTemp SE-HD, EtchTemp-SE）, イオン注入｜20-140°C 関連製品 エッチテンプ-HD マルチゾーン静電チャック（ESC）ウェーハプロセスの特性評価用の、実際のプロセス条件下での時間的および空間的な温度データです。 エッチテンプLT 20℃以下のウェハーエッチングプロセスの特性評価用の、実際のプロセス条件下での時間的および空間的な温度データ。 エッチテンプ-HP 高総電力、高アスペクト比接触（HARC）エッチウェハープロセスの特性評価用の実プロセス条件下での時間的および空間的温度データ。 エッチテンプ-SE ハイパワー、高周波シリコンエッチウェハープロセスの特性評価用の、実際のプロセス条件下での時間的および空間的な温度データ。 EtchTemp ハイパワー、高周波誘電体エッチングウェハープロセスの特性評価のための、実際のプロセス条件下での時間的および空間的な温度データ。