温度監視システム Process Probe™ 1530/1535

測定用リアルタイム

プロセスプローブ™ 1530および1535は、コールドウォール、RTP、スパッタリング、CVD、プラズマストリッパー、エピタキシャルリアクターなど、さまざまなプロセスのその場温度をモニターするために使用されます。プロセスプローブ1530および1535は、プロセスサイクルの重要な各工程におけるウェーハ温度をリアルタイムで直接測定します。この包括的な温度データにより、プロセスエンジニアは、プロセス条件を特徴付け、微調整することができ、プロセス装置の性能、ウェーハ品質、歩留まりの向上を促進することができます。 アプリケーション プロセス開発、プロセス認定、プロセスツール認定、プロセスツールマッチング コールドウォール薄膜プロセスチャンバー(1530), ホットウォール薄膜プロセスチャンバー(1535) | 0-1100°C