シリコンウェーハ、IGBT、ポリイミド、薄ウェーハの酸化・拡散・CVD熱処理装置。
高さ3000mm以下でサイズ的に導入しやすく、
短タクトタイム・高スループットをを実現したモデル。
300mm・12インチウェーハの短タクトタイム・高スループット処理が可能なミニバッチ25~50枚一括処理タイプの縦型拡散炉です。ストッカースペースを削減した設計のため、全高3000mm以下で導入しやすいサイズになっています。ストッカーレスで導入されるケースも多く、ストッカー関連のコストを抑えることも可能です。LGOヒータ採用で低温~中高温までの広い範囲で優れた温度特性を発揮し、シリコンウェーハ以外にもIGBT、ポリイミド、薄ウェーハなどの熱処理に適しています。