スチールアニール RLA-3100-V

大量生産

コンタクトアニールの処理が可能。GaN基板の処理も可能。 6インチウェーハ対応、真空(LP)環境・N2ロードロック雰囲気での活性化、酸化処理が可能。　 ～6インチウェーハ対応可能なランプアニール装置です。耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。GaN基板処理も可能です。