マッフル炉 DTL-6

電動プログラム可能

Φ150mmまでウェーハサイズに対応 上下面クロスランプ構造の採用で面内温度均一性を向上 加熱炉と制御盤の別体化でレイアウトが自由 従来のランプアニール装置では不可能であった400℃以下の温度でも制御可能な実験・開発用装置です。ハロゲンランプを熱源とする平面加熱方式の熱処理装置です。