チャンバー炉 VF-5300H

焼きなまし窒化掃除用

最大20個のカセットストッカーによる連続バッチ処理が可能 オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載 5枚一括＋枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送 LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮 二珪化モリブデンヒータを搭載のHタイプをラインアップ 機密性の高いチャンバー構造を採用（Hタイプ） Φ200mmウェーハ最大150枚、20個のカセットストッカーを備え、連続バッチ処理が可能なラージバッチ量産タイプの縦型拡散炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン（MoSi2）ヒータを使い分けることにより、酸化、拡散、LP-CVDはもちろん、SiCパワーデバイスのゲート酸窒化処理など超高温プロセスにも対応します。