チャンバー炉 RLA-4106-V

焼きなまし真空

チャンバおよび搬送部に真空ロードロックを標準搭載、高いスループットを実現 SiCやGaNウェーハ向けにサセプタ自動載せ替え機能搭載 上下ともハロゲンランプをクロスに設置 6ゾーン制御で簡易に各々のパワー比率が設定可能 放射温度計により非接触でワークの温度を測定し、フィードバック制御が可能 本装置は、複数のハロゲンランプを熱源とし、ウェーハのアニールを短時間で高精度に処理する目的の生産用装置です。