実験・研究(R&D)用途で高品位なプロセスを実現する少量生産用縦型炉。
小型で接地面積が少なくすみながらも、
幅広いウェーハ径に対応し量産機と同一の温度特性を発揮。
ミニバッチ、最大25枚の選択処理が可能で、2インチ~8インチ、および300mmまで幅広いウェーハサイズに対応した実験・研究(R&D)、少量生産用縦型炉です。LGOヒータを初めとする各種ヒータの採用で、量産機と同一の炉口構造とヒータ性能でプロセス開発が可能です。シリコンウェーハ向けの各種処理(LPCVD,酸化拡散)や、パワーデバイス(Si、SiC)向けの開発用途で、ゲート酸窒化や活性化アニールなどの幅広いプロセスに対応可能です。