R&D~量産まで使用可能な4~8インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉。
後工程ユーザーにもご採用いただける低コストを実現。
超高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。
ミニバッチ、50~75枚の選択処理が可能で、4インチ~8インチまで幅広いウェーハサイズに対応します。ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまでお使いいただける縦型炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータ、カーボンヒータを使い分けることにより、低温アニールやナイトライド(Si3N4)、ポリシリコン(Poly Si)などのLPCVDや酸化拡散処理はもちろん、SiCパワーデバイス向けのゲート酸窒化や活性化アニールなど超高温プロセスにも対応します。