4~8インチウェーハ対応、R&Dにおいても高品位処理を実現したランプアニール装置。
真空(LP)環境・N2ロードロック雰囲気での活性化、酸化処理が可能。
200℃/秒の高速昇温、4~8インチウェーハ対応、手動サセプター搬送の採用で低コスト化を実現したR&D向けランプアニール装置です。ハロゲンランプによる上下クロスランプ構造採用で優れた面内温度均一性を実現、低コストと高品位処理を両立しています。耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。