本システムは、2次元全反射測定用で、試料の表面分析やフィルムの鏡面反射率も測定でき、多角度散乱の自動測定や波長依存性の測定も可能です。このシステムは、表面反射率測定、表面粗さ、膜厚分析などにも応用できます。
ネス分析などにも応用できます。回転プラットフォームの設計により、3D全反射・拡散測定システムや反射・透過・吸光測定システムを拡張することができ、通常、半導体、2Dまたは30種類の材料、光導電体、太陽エネルギー、LED、パネル、コーティングおよび関連産業に適用されます。
コーティングおよび関連産業。
特徴
- 測定可能なスペクトル範囲380~1100nm、280~1050nm、900~1600nm
- 自動校正機能
- プログラム制御による単一入射および反射角の反射率測定
- プログラム制御による単一入射・反射角範囲の反射率測定}
- プログラム制御による特定入射・反射角範囲の反射率測定
- 反射/拡散比測定の波長依存性の測定と解析
- 単層膜の膜厚計算の実施
- 履歴を追跡するデータベース記録
- 透過率や吸光度の測定にも拡張可能
- 回転台による3次元全反射・拡散反射曲線の測定
他分野への応用
- メタマテリアル試料の異なる偏光下でのスペクトル測定
- 異方性フィルムや結晶試料の角度依存性のスペクトル測定
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